曾仔细研究 PN 结、三极管、MOS 管很多次,一直感觉有些东西没有领悟透彻,而这次研究比较透彻,总结一下。
常见的 PN 结是这样画的,左边是 P 型半导体,右边是 N 型半导体。
外部未通电时,交汇处的 N 型半导体的自由电子扩散到 P 的区域,所以 N 失去电子带正电(粉红色表示),P 收到电子带负电(浅蓝色表示)。
扩散到 P 区的电子基本不会向左继续扩散,因为受到粉红色区域正电荷的吸引,扩散力和吸引力最终达到一个平衡。
第一个迷思是,粉红色区域右侧的电子会不会被粉红色区域吸引,从而聚集到粉红色区域?
答案是不会,因为右侧区域有自由电子,整体是导电的,所以电势是相同的,准确画法应该是下面这样,更好理解:
PN 正向导电时,外部电源正极接 P 型半导体,负极接 N 型半导体,会中和掉静态形成的 PN 结电势差(0.7V 左右),从而让电子继续向左扩散(原有的扩散力加上电源减掉0.7V的电场力)。
这里继续扩散有个细节要注意,并非从中间区域依次向左填满所有空穴,可以想像一下,如果一块单独的 P 型半导体,它的所有空穴都被电子填满,那么它相当于带了负的成千上万 V 的静电。 又或者想像一下,未通电时形成的 PN 结是很薄的一层,这一层里面 P 型半导体大多数空穴被电子填满,对应 0.7V 的负电压,如果比这个厚度再厚 1000 倍的区域的空穴被电子填满,那就相当于 700V 的电压。
所以,继续扩散时,P 型半导体总体多出的电子还是占很少的部分,空穴占了绝大多数。当这些少数电子慢慢扩散到最左侧的金属管脚,才形成了持续的电流(此时 P 型半导体依旧是空穴占了绝大多数)。
关于金属管脚,这里要提一下肖特基二极管,肖特基二极管是金属和 N 型半导体组成,用金属代替 P 型半导体,原理和 PN 结也差不多,这里不细说。这里要说的是,普通二极管、三极管、MOS 管和芯片的管脚都是半导体和金属连接,岂不是每个管脚还存在一个肖特基二极管?又或者说,肖特基二极管核心是金属和 N 型半导体,那 N 型半导体的管脚也是金属,那么不就是 金属--半导体--金属 这样的组合,那正反不就都一样?答案是,芯片领域金属和半导体连接时有个术语是欧姆接触和肖特基接触,普通的管脚使用的是欧姆接触,它用了一系列的工艺,消除了金属和半导体直接接触产生的肖特基二极管,具体也不细说。我们后面分析二极管、三极管、MOS 等器件时,不用考虑金属管脚的问题了。
比较难理解的是 PN 结的反向截止,此时外部电源正极接 N 型半导体,负极接 P 型半导体。
外部电源会向 P 型半导体注入少量电子(数量和电源电压成正比),这些电子向右移动(扩散+电场吸引)然后把 PN 结外层 P 型半导体的空穴填满,从而加厚了 PN 结。 同理 N 型半导体的电子被外部电源抽走相同数量,也加厚了 PN 结。
但是,由于电池电场 + PN 结原有电场,电场很强了,为何不会把 PN 结 P 区域原本空穴中的电子吸到 N 区,从而形成电流? 未外部通电时,PN 结存在 0.7V 的电场力,就与电子扩散力达到了平衡,那么反向电压远超过 0.7V,按理应该让电子反向扩散。
我的理解是,开头有提及 PN 结的外侧都是导电的,PN 结中心区域是高阻态的,但也不是完全不导电,因为有反向漏电流。也就是说由较外侧到中间,电阻逐渐增大。 所以,外部电源的电压虽然比 0.7V 高很多,但是分散到内部比较近的距离,电压差其实是不大的。有点类似高压电线掉到地面,要双脚跳着离开的道理。 也就是说,外部供电最终分布到 PN 结最核心区域的电压并没有超过 0.7V,也就没能完全抗衡电子的扩散力、让电子向右移动。
而且,由于反向偏置使 PN 结加宽,高阻区域变宽,单位距离分到的电压差也就越低。
而超大的反向击穿电压,分布到 PN 结最核心区域的电场力超过了电子的扩散力,就可以让电子大量向右移动了。
接下来说一说 三极管 和 MOS 管,只有真正理解了 PN 结的本质,才好理解 三极管 和 MOS 管。
三极管 和 MOS 管的核心其实都是:让反向偏置和截止的 PN 结也能导通。
让反向偏置截止的 PN 结导通的核心,我认为是:降低上述电子的扩散力场,以便在现有供电的情况下,让电子向右移动。
降低上述电子的扩散力场的方法是:降低 PN 结两侧的电子的潜在的浓度差。 譬如说让 PN 结的 P 区域的空穴填满电子的情况下还有多余活动电子存在,让 PN 结的 P 区有高浓度电子。
譬如对于 NPN 三极管,b 悬空时,仅 c e 加正电,PN(c) 默认是反向截止的。 当 b e 加正电时,PN(e) 导通,电子由 e 进去,从 b 离开。 由于 P 比较薄,电子从 b 离开前,非常靠近 PN(c) 结的边缘,从而增加了该 PN 结 P 区域电子浓度,从而使 PN(c) 也导电。
又譬如 MOS 管,gate 脚是一个电容,gate 脚和 P 之间加上电压,gate 为正,外部电源会向 P 型半导体注入少量电子(数量和电源电压成正比), 这些电子会被 gate 脚电场吸引聚集在 P 型半导体靠近 gate 的区域,而这一聚集增加了其中反向偏置的 PN 结的 P 区域的电子浓度,从而使该 PN 结导通。
直接把 MOS 简化成这样可以吗?控制电压加在 gate 和 s 之间,使反向偏置的 d s 导通。
又或者这样简化三极管可以吗?让 a e 通过一个控制电流,同时 a 又靠近 PN 结,使反向偏置的 c e 导通。
我认为是可行的,只是这样的器件,应用上没有标准的 三极管 和 MOS 管灵活,所以不这样设计。 更有可能是非简化器件的制作工艺反而更简单。
其实,通常 MOS 衬底会接到 s 脚,也就相当于简化后的样子。
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